テクノロジーシフトを加速する新技術を提供
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新技術を採用した最新半導体製造ArF液浸用リソグラフィ光源「GT66A」の量産出荷を開始したと発表しました。
最先端デバイス製造は、現在、ロジックデバイスでは3nmノードのプロセス開発が開始、DRAMでは1Znmノードの量産が開始されています。これらの超微細デバイスでは、ウエハに転写される露光パターンのラフネス低減が課題となっており、回路パターンを忠実に再現し量産でのイールド向上が重要となっています。
新型ArF液浸用光源「GT66A」は、新開発の光学モジュールによりパルス発光時間を従来の3倍以上伸長することで、露光面でのビーム均一性の改善を実現し、ラフネスを低減することに成功しました。更に、最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。
GT66Aは、この度、オランダ大手ASML社の最新ArF液浸露光装置NXT:2050i用光源としての認定が完了し、エンドユーザに向けた光源の量産出荷が開始されます。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「近年の半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められています。それを主に支えるのはロジックやメモリ半導体の微細化であり、更なるリソグラフィ技術の革新による高い生産性が求められています。ギガフォトンは技術革新によるイメージング性能の改善と、光源のアベイラビリティの向上により、次世代の産業界の発展に貢献していきます。」
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
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